1樓：匿名使用者
等離子清洗原理
給氣態物質更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。當到達等離子狀態時，氣態分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用於形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結合，形成原來的氣體分子。
與溼法清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處於「等離子態」的物質的「活化作用」達到去除物體表面汙漬的目的。從目前各類清洗方法來看，等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗方式。
等離子清洗一般是利用鐳射、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發成等離子狀態。
在等離子清洗應用中，主要是利用低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機氣體（ar2、n2、h2、o2等）在高頻低壓下被激發，產生含有離子、激發態分子，自由基等多種活性粒子。一般在等離子清洗中，可把活化氣體分為兩類，一類為惰性氣體的等離子體（如ar2、n2等）；另一類為反應性氣體的等離子體（如o2、h2等）。
這些活性粒子能與表面材料發生反應，其反應過程如下：
電離——氣體分子——激發——激發態分子——清洗——活化表面
2樓：默默
表面等離子體（su***ce pla**ons，sps）是指在金屬表面存在的自由振動的電子與光子相互作用產生的沿著金屬表面傳播的電子疏密波。其產生的物理原理如下：如作圖所示，在兩種半無限大、各向同性介質構成的介面，介質的介電常數是正的實數，金屬的介電常數是實部為負的複數。
根據maxwell方程，結合邊界條件和材料的特性，可以計算得出表面等離子體的場分佈和色散特性。
奈米金屬晶體的表面等離子體共振存在不同的分類方式：1) 橫向(transverse su***ce pla**on resonance)與縱向(longitude su***ce pla**on resonance)。 其中，縱向表面等離子體共振有希望應用於光波導。
2) 局域等離子體共振(localized su***ce pla**on resonance)與傳播等立體子體共振(propagating su***cepla**on resonance)。
值得注意的是longitude su***ce pla**on resonance與localized su***cepla**on resonance的英文縮寫都是lspr(或者lsp)，在不同的文章中容易混淆。
表面等離子體共振的原理？
3樓：化雅昶續鑠
（1）金屬塊狀體內等離子體的產生及振盪；（2）金屬薄膜中表面等離子體子的產生及特性；(3)電磁波在金屬薄膜中的傳播；（4）電磁波與金屬薄膜表面等離子體子的共振；（5）表面等離子體子共振光譜的特性及影響因素。從而,較為系統地論述了表面等離子體子共振感測器的理論基礎。
表面等離子體子共振是一種物理光學現象。它利用光在玻璃與金屬薄膜介面處發生全內反射時滲透到金屬薄膜內的消失波,引發金屬中的自由電子產生表面等離子體子,在入射角或波長為某一適當值的條件下,表面等離子體子與消失波的頻率與波數相等,二者將發生共振,入射光被吸收,使反射光能量急劇下降,在反射光譜上出現反射強度最低值,此即為共振峰。緊靠在金屬薄膜表面的介質折射率不同時,共振峰位置（共振角或共振波長）將不同,據此,可對待測物進行分析。
在對國內外研究現狀進行了深入調查和研究的基礎上,本文設計並組裝了新型多波長同時檢測表面等離子體子共振感測裝置,在第3章中詳細描述了這一裝置的設計路線和組裝方法。迄今,已有的spr儀器和裝置其工作原理大都是以入射角做為變數,實驗過程中測量反射光強度與入射角的關係,通過共振角的變化研究體系的各種性質。改變角度的方式有2種,最常用的一種是角度掃描,設定一個機械轉動盤,整套裝置除光源外均置於其上,然後使機械轉盤以一定的速度轉動,保證角度掃描過程中,單位變化值儘量小。
這種裝置有一個可動部件,且角度掃描過程所用的時間,在一定程度上影響了實時監測反應動態過程的進行,即實際上將會有一個時間延遲。改變角度的另一種測量方式較巧妙,無可動部件,且可以多角度同時測量,例如biacore的工作原理,利用點光源的發散作用,在檢測器陣列中得到不同角度的反射光強度值,但此種方式可測量的角度範圍較小。
表面等離子體的簡介
4樓：匿名使用者
等離子清洗原理
給氣態物質更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。當到達等離子狀態時，氣態分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用於形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結合，形成原來的氣體分子。
與溼法清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處於「等離子態」的物質的「活化作用」達到去除物體表面汙漬的目的。從目前各類清洗方法來看，等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗方式。
等離子清洗一般是利用鐳射、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發成等離子狀態。
在等離子清洗應用中，主要是利用低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機氣體（ar2、n2、h2、o2等）在高頻低壓下被激發，產生含有離子、激發態分子，自由基等多種活性粒子。一般在等離子清洗中，可把活化氣體分為兩類，一類為惰性氣體的等離子體（如ar2、n2等）；另一類為反應性氣體的等離子體（如o2、h2等）。
這些活性粒子能與表面材料發生反應，其反應過程如下：
電離——氣體分子——激發——激發態分子——清洗——活化表面
5樓：手機使用者
隨著奈米技術的發展，表面等離子體被廣泛研究用於光子學，資料儲存，顯微鏡，太陽能電池和生物感測等方面。
表面等離子體的研究方法
6樓：匿名使用者
頻寬幅輝光等du
離子表面處理機
等離子清洗zhi
原理給氣態物質更dao
多的能專量，比如加屬熱，將會形成等離子體。當到達等離子狀態時，氣態分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用於形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結合，形成原來的氣體分子。
與溼法清洗不同，等離子清洗的機理是依靠處於「等離子態」的物質的「活化作用」達到去除物體表面汙漬的目的。從目前各類清洗方法來看，等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗方式。
等離子清洗一般是利用鐳射、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發成等離子狀態。
表面等離子體的介紹
7樓：念塵渣攻
表面等離子體（su***ce pla**ons，sps）是一種電磁表面波，它在表面處場強最大，在垂直於介面方向是指數衰減場，它能夠被電子也能被光波激發。表面等離子體是目前奈米光電子學科的一個重要的研究方向，它受到了包括材料學家，化學家，物理學家，生物學家等多個領域人士的極大的關注。
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