1樓：匿名使用者
配位掩蔽bai法、沉澱掩蔽法和氧化還原
du掩蔽法.
配位掩蔽法，zhi當dao溶液中存在其他金屬離子專n時，由於屬n與y發生副反應，降低了條件穩定常數,給m離子滴定帶來誤差。加上n離子還可能對指示劑有封閉作用。這時可採用配位掩蔽法，就是通過加入掩蔽劑，使掩蔽劑與干擾離子形成穩定配合物，降低溶液中游離n的濃度，從而減小，增大而使m可以單獨滴定。
沉澱掩蔽法，就是加入沉澱劑，使干擾離子產生沉澱而降低n離子濃度。如在強鹼溶液中用edta滴定ca（有mg干擾），強鹼與mg形成mg(oh)↓，這樣mg就不干擾ca的測定。氧化還原掩蔽法，就是利用氧化還原反應改變干擾離子的價態以消除干擾。
例如fe是一強的封閉劑，加入還原劑使溶液中fe還原成fe，可達到掩蔽作用。在實際應用中最常用的還是配位掩蔽法。
氧化還原掩蔽法是指在edta滴定過程中加入氧化劑或還原劑，改變干擾離子價態以消除干擾的方式。 例如： bi3+ 和 fe3+ 共存時，測定bi3+ 時fe3+ 有干擾，可加抗壞血酸（維生素c）將fe3+ 還原為fe2+ ，大大降低了鐵離子和edta配合物的穩定性，從而消除fe3+ 對bi3+ 測定的干擾。
配位滴定常用掩蔽方法有哪些
2樓：匿名使用者
配位掩蔽法
bai、沉澱掩蔽du法和氧化還原掩蔽法zhi.
配位掩蔽法，當溶液中存在dao其他金專屬離子n時，由於n與y發生副反應屬，降低了條件穩定常數,給m離子滴定帶來誤差。加上n離子還可能對指示劑有封閉作用。這時可採用配位掩蔽法，就是通過加入掩蔽劑，使掩蔽劑與干擾離子形成穩定配合物，降低溶液中游離n的濃度，從而減小，增大而使m可以單獨滴定。
沉澱掩蔽法，就是加入沉澱劑，使干擾離子產生沉澱而降低n離子濃度。如在強鹼溶液中用edta滴定ca（有mg干擾），強鹼與mg形成mg(oh)↓，這樣mg就不干擾ca的測定。氧化還原掩蔽法，就是利用氧化還原反應改變干擾離子的價態以消除干擾。
例如fe是一強的封閉劑，加入還原劑使溶液中fe還原成fe，可達到掩蔽作用。在實際應用中最常用的還是配位掩蔽法。
氧化還原掩蔽法是指在edta滴定過程中加入氧化劑或還原劑，改變干擾離子價態以消除干擾的方式。 例如： bi3+ 和 fe3+ 共存時，測定bi3+ 時fe3+ 有干擾，可加抗壞血酸（維生素c）將fe3+ 還原為fe2+ ，大大降低了鐵離子和edta配合物的穩定性，從而消除fe3+ 對bi3+ 測定的干擾。
在配位滴定分析中,有共存離子存在時應如何選擇滴定的條件?
3樓：匿名使用者
1.控制酸度分別滴定.
2.使用掩蔽劑的選擇性滴定;
3.利用其他滴定劑,如egta和edtp.
如利用上述方法還不能消除干擾離子的影響,只有採用分離的方法除去幹擾離子.
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